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US概念公報検索 利用ガイド |
特徴
・米国特許の公開公報および登録公録について日本語や英語で概念検索が可能 ・RIPWAY V4の機能がほぼ利用可能(一部利用不可) ・公報表示では「発明の名称」や「要約」の日本語(機械語)を表示 利用時の注意点 ・RIPWAYにおける米国調査は「概念検索」に特化した利用を想定しています。 通常の書誌やキーワードの検索については「PatentSQUARE」をご利用ください。 ※PatentSQUAREログイン画面 http://search.rips21.ricoh.co.jp/PATENTSQUARE/login.jsp ・日本公報と同時に検索することはできません。 利用する際のポイント 1.ログインについて US用のログイン画面を表示して、シングルユーザーIDとPWにてログインを実行。 http://search.rips21.ricoh.co.jp/RIPWAY4-us/ ・RIPWAY V4 国内ログイン画面からの指定 国内ログイン画面の左上にある「RIPWAY V4(US概念公報検索)」リンクを選択 ※ログイン後は日本公報の操作手順と基本的に同じです。 2.検索について (1)概念検索 下記の6つの検索項目が指定可能で、(翻訳)が表記されている項目は日本語、それ以外は英語にて指定します。 ※日本語と英語を混在して条件を指定する際は検索項目をわけて指定します。 (2)表検索 書誌の検索項目については提供項目が限定されています。このため書誌の検索をメインで実施する場合は「PatentSQUARE」をご利用ください。 3.表示について (1)表示 ①日本語の翻訳表示(機械翻訳) 「書誌一覧」「サマリ一覧」形式 ・・・・「発明の名称」と「要約」が日本語で表示 ②表示での制限 各表示形式で表示される図面は代表図のみの表示 (2)ダウンロード ①日本語の翻訳出力(機械翻訳) 「発明の名称」と「要約」の項目では一つの項目にて英語→日本語の順にて出力 ②ダウンロードでの制限 日本語と英語を別項目で選択することは不可 |